Filmes finos de óxidos mistos vanádio/platina preparados por co-sputtering: propriedades eletroquímicas

Abstract

Neste trabalho foram investigadas as propriedades eletroquímicas de filmes finos amorfos de óxidos mistos vanádio/ platina em três diferentes razões Pt/V, preparados pela técnica de co-sputtering reativo a partir de alvos metálicos ultrapuros de vanádio e platina. Além de amostras de V2 O5 puro, foram caracterizados eletroquimicamente três tipos de composição: Pt0.1V2 O5 , Pt0.5V2 O5 e Pt1.0V2 O5 . Os resultados mostraram que a relação Pt/V é fundamental na performance eletroquímica do composto. Observou-se que grandes quantidades de platina pioram as propriedades eletroquímicas. No entanto, em número reduzido e adequado, essas impurezas, quando incorporadas na estrutura do pentóxido de vanádio, além de aumentar a capacidade de carga (cerca de 40%), resultaram também em aumento na estabilidade eletroquímica do composto. O processo se mostrou bastante reversível ao longo de 100 ciclos de carga e descarga. O projeto de pesquisa está em andamento, sendo que foram apresentados apenas resultados preliminares.