Resumo
Foram preparados filmes compactos de dióxido de titânio por Deposição por Camadas Atômicas (ALD) para aplicação como blocking layer e camada antirrefletora para células solares. Os filmes foram depositados a 200°C e recozidos a 300°C, 400°C e 500°C. Foram feitas caracterizações das propriedades termomecânicas a partir de medidas da tensão residual em função da temperatura para uma variedade de substratos, a partir da qual se obtém o coeficiente de dilatação térmica dos filmes; e nanoindentação, a partir do qual se determina o módulo de Young e a razão de Poisson dos filmes.
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