Caracterização estrutural de filmes finos por técnicas de raios X
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Palavras-chave

Raios X
Caracterização estrutural
Filmes finos

Como Citar

BARRERA, Victor; CARDOSO, Lisandro; SILVA, Diego da; JÚNIOR, Odilon Couto. Caracterização estrutural de filmes finos por técnicas de raios X. Revista dos Trabalhos de Iniciação Científica da UNICAMP, Campinas, SP, n. 27, p. 1–1, 2019. DOI: 10.20396/revpibic2720191865. Disponível em: https://econtents.bc.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/1865. Acesso em: 28 mar. 2024.

Resumo

O trabalho que será apresentado é resultado de seis meses de aprendizado de tecnicas de raio-x aplicado no reconhecimento de filme fino sobre silício como substrato. Foram analizadas um conjunto de 7 amostras e sobre elas verificou-se a influência da relação de pulso/purga de DeZ e de água sobre o substrato de silício, variando o tempo de aplicação sobre cada amostra.

https://doi.org/10.20396/revpibic2720191865
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Referências

BARRERA, V.; CARDOSO, L.; SILVA, D. DA; COUTO JÚNIOR, O. Caracterização estrutural de filmes finos por técnicas de raios X. Revista dos Trabalhos de Iniciação Científica da UNICAMP, n. 27, p. 1-1, 13 dez. 2019.

Todos os trabalhos são de acesso livre, sendo que a detenção dos direitos concedidos aos trabalhos são de propriedade da Revista dos Trabalhos de Iniciação Científica da UNICAMP.

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