Resumo
O trabalho que será apresentado é resultado de seis meses de aprendizado de tecnicas de raio-x aplicado no reconhecimento de filme fino sobre silício como substrato. Foram analizadas um conjunto de 7 amostras e sobre elas verificou-se a influência da relação de pulso/purga de DeZ e de água sobre o substrato de silício, variando o tempo de aplicação sobre cada amostra.
Referências
BARRERA, V.; CARDOSO, L.; SILVA, D. DA; COUTO JÚNIOR, O. Caracterização estrutural de filmes finos por técnicas de raios X. Revista dos Trabalhos de Iniciação Científica da UNICAMP, n. 27, p. 1-1, 13 dez. 2019.
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